Microélectronique

Graver Technologies fournit une technologie permettant de suivre les contaminants dans les dispositifs microélectroniques tels que les transistors, les condensateurs, les résistances, les LED, les stimulateurs cardiaques ou les écrans plats.

Technologie de filtration pour l'industrie microélectronique

Les dispositifs microélectroniques tels que les transistors, les condensateurs, les résistances, les LED ou les écrans plats touchent tous les aspects de la vie quotidienne. Des téléphones portables aux ordinateurs en passant par les stimulateurs cardiaques et les appareils auditifs, en passant par les automobiles et les avions de chasse, les performances fiables du composant, en particulier dans les applications critiques, sont extrêmement importantes. Les traces de contaminants peuvent réduire les rendements ou entraîner la défaillance de l'appareil, ce qui entraîne une hausse des coûts de fabrication ou une mauvaise qualité du produit, susceptible de provoquer un échec commercial. Les sources de contaminants dans l'environnement de fabrication proviennent du personnel, de l'air, des produits chimiques de traitement, de l'eau ou de l'équipement. Chacun doit être géré de manière à réduire les risques afin d'optimiser la qualité et le rendement des produits.

Solutions pour optimiser le rendement de la microélectronique

Une filtration hautement efficace des particules submicroniques est essentielle pour maximiser les rendements en réduisant les défauts tout au long des processus de production dans toutes les applications de microélectronique. Graver Technologies propose une gamme complète de technologies de filtration pour protéger ces processus critiques tels que la photolithographie, la CMP ou la gravure humide qui sont utilisés pour produire des semi-conducteurs, des écrans plats ou des dispositifs de stockage de données. En éliminant les particules provenant de sources en amont telles que l'eau de très haute pureté ou les produits chimiques de qualité électronique, nous sommes en mesure de réduire les temps d'arrêt de fabrication, d'optimiser les coûts d'exploitation et de maintenance, de prolonger la durée de vie des produits chimiques et de réduire le risque de défauts, ce qui permet d'optimiser les rendements et la qualité des produits pour une fabrication efficace et économique des appareils. Nous fabriquons en utilisant une large gamme de matériaux, notamment le PTFE, le PFA, le polyéthersulfone et le polypropylène, pour offrir une excellente résistance aux produits chimiques et à la température.

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Frequently Asked Questions

What is a pre reverse osmosis filters and why is it necessary?

In order to maximize the life of reverse osmosis membranes, it is highly recommended to use a filter in front of the membrane with the goals of reducing the risk of fouling the membrane. Membrane fouling is the main cause of permeate flux decline and loss of product quality in reverse osmosis systems. Silt Density Index or SDI (ASTM standard test method D 4189-82), is the empirical test developed for measuring the potential rate of fouling of RO membranes

What is the difference between MOCVD and CVD? What does MOCVD stand for?

Chemical vapor deposition (CVD) is a vacuum deposition method generally used for depositing crystalline micro/nano thin films and structures on wafers using materials such as silicon, carbon, fluorocarbons, tungsten and titanium nitride. Metal organic chemical vapor deposition (MOCVD), a variant of CVD, is most commonly used for the production of red, blue, green and white LEDs

What is an integrated circuit?

This broad category includes devices such as transistors, capacitors, resistors, diodes, LED and photocells. The different types of devices can be integrated together to form integrated circuits, or VLSI (Very Large Scale Integration) devices such as microprocessors and random access memory (RAM).

What is Chemical Mechanical Planarization?

CMP is a process used for smoothing the surfaces of semiconductor wafers using a combination of chemical and mechanical forces. The process uses chemical etching and abrasive polishing to achieve a flat surface.

What are polishers for silicon wafers?

Polishing of wafers is typically accomplished using a process called Chemical Mechanical Planarization, which uses a combination of chemical etching and abrasive polishing to achieve a flat surface.

What is a complex integrated circuit?

This is essentially the same as a microprocessor, an integrated circuit that behaves as the brain of the computer. Also referred to as the central processing unit, or CPU.

How is a microprocessor different from an integrated circuit?

A microprocessor is an integrated circuit, but not all integrated circuits are microprocessors. This acts as the brains, being able to process logical and arithmetic instructions that are programmed into it.

Why are metals not used on transistors and integrated circuits?

Copper and other metals are used as conductors in printed circuit boards. But for microelectronic devices it is difficult to properly control the electric signal and thus semiconductor material such as silicon is used which also insulates better.

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