Circuitos integrados

Graver Technologies ofrece soluciones de filtración para las aplicaciones críticas en la producción de dispositivos microelectrónicos.

Circuito integrado Graver Technologies

Tecnología de filtración innovadora para la industria de semiconductores

Los requisitos de filtración son fundamentales en la fabricación de componentes electrónicos muy pequeños denominados circuitos integrados. Esta amplia categoría incluye dispositivos como transistores, condensadores, resistencias, diodos, LED y fotocélulas. Los diferentes tipos de dispositivos se pueden integrar para formar circuitos integrados o dispositivos VLSI (integración a gran escala), como microprocesadores y memorias de acceso aleatorio (RAM). A medida que se apilan más dispositivos en un único circuito integrado, también se reduce la distancia entre los dispositivos, denominada ancho de línea o geometría. Esto permite funciones más rápidas y, al mismo tiempo, reduce el costo por chip. Los procesos utilizados para fabricar estos dispositivos, por lo tanto, requieren agua ultrapura, así como una serie de productos químicos y mezclas químicas potencialmente peligrosos o agresivos, todos los cuales deben estar altamente filtrados para garantizar la calidad de los dispositivos y un alto rendimiento.

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Circuito integrado Graver Technologies

Acerca de los filtros Graver para circuitos integrados

  • Membrana de fluoropolímero y construcción totalmente de fluoropolímero para cumplir con los requisitos de compatibilidad química para los decapantes a base de solventes, pirañas y productos agresivos a base de ácido.
  • Fabricado, lavado con 18 mΩ-cm de agua destilada, probado y empaquetado en un entorno de sala limpia de clase 7 según la norma ISO para garantizar una baja capacidad de extracción y una baja eliminación de partículas
  • Membrana PES para ácidos de base acuosa, que ofrece características de flujo superiores, alta capacidad de contaminación y eliminación constante de partículas submicrométricas.

Product Selection

  • ZTEC™ - Para el control de partículas críticas de hasta 0,03 micras para productos químicos acuosos
  • TefTec™ - Membrana de PTFE hidrófoba para aplicaciones químicas más agresivas
  • Citadel® - Filtro totalmente de fluoropolímero para las aplicaciones químicas más críticas y agresivas

Final Applications

Deposición química de vapor de metales orgánicos

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