Agua ultrapura
Graver Technologies proporciona tecnología eficaz para cumplir con los requisitos del agua ultrapura.
Tecnología de filtración de alto rendimiento para agua ultrapura/DI
Las especificaciones para la calidad del agua ultrapura se han vuelto cada vez más estrictas a lo largo de los años y la tecnología de filtro ha evolucionado para cumplir con estos requisitos. Las instalaciones de semiconductores pueden utilizar agua ultrapura a una velocidad de 2 MGD o unos 5500 m3/día. Las especificaciones para el agua ultrapura para la industria de semiconductores son las más estrictas. Estas fábricas de agua suelen ser instalaciones independientes que funcionan de forma casi independiente de la fábrica. El agua debe cumplir con las especificaciones de conductividad y partículas, lo que requiere el uso de ósmosis inversa, lechos de resina y tecnologías de filtración mecánica. Los filtros finales con una potencia inferior a 0,1 micras son lo habitual antes de enviar el agua a la fábrica, donde se encuentran los filtros de punto de uso con clasificaciones similares.
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- Fabricado, lavado con 18 mΩ-cm de agua destilada, probado y empaquetado en un entorno de sala limpia de clase 7 según la norma ISO para garantizar una baja capacidad de extracción y una baja eliminación de partículas
- Eliminación de partículas de las corrientes de agua entrantes
- Clarifica y atrapa la resina de intercambio iónico de los procesos anteriores
- Prefiltración del filtro de ósmosis inversa (RO)
- Características de flujo superiores, alta capacidad de contaminación y eliminación constante de partículas submicrónicas.
- Los cartuchos muestran una resistividad rápida de hasta 18 mΩ cm y niveles de TOC en ppb de un solo dígito.
Product Selection
- ZTEC™ para un control de partículas críticas de hasta 0,03 micras
- Stratum® A, PMA™, Stratum™ C Los filtros fundidos de 0,5 y 1 micra proporcionan una protección eficaz de la membrana de ósmosis inversa
- WaterTec™ Membrana de 0,05 a 0,2 micras como una opción de membrana económica en aplicaciones no críticas
Final Applications
Support Literature
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