Deposición química de vapor
Graver Technologies proporciona una filtración de alto rendimiento para aplicaciones de bombas de vacío.
Eliminación altamente eficaz de partículas de las líneas de vacío de gas a alta temperatura
La deposición química de vapor metálico orgánico es una variante mejorada de la deposición química de vapor que se utiliza para crear películas delgadas semiconductoras cristalinas y microestructuras y nanoestructuras de alta pureza, y es la tecnología líder en la industria utilizada en LED, células solares y transistores de efecto de campo (FET). Sin embargo, los procesos MOCVD (SiC, GaAs, GaN u otros semiconductores compuestos) también producen polvos y partículas cuando los gases de escape fluyen hacia la tubería y la bomba de vacío de baja temperatura (alrededor de 150 ℃). Las partículas pueden causar daños inesperados e importantes a las bombas de vacío. Para proteger las bombas de vacío, se necesita un filtro de alto rendimiento para atrapar partículas pequeñas a altas temperaturas de trabajo.
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- El elemento reemplazable y limpiable que cuenta con un diseño de cartucho plisado o de «aleta radial» ofrece la máxima área de filtro en un conjunto de filtros compacto
- Proporciona un sellado positivo de la junta para evitar que se desvíen los fluidos no filtrados. Se garantiza una larga vida útil del filtro, una baja caída de presión, una gran capacidad de retención de suciedad y una filtración eficiente.
- La mayoría de los modelos emplean solo un elemento de filtro para permitir un cambio de cartucho rápido y sencillo.
- Todos los modelos se pueden reparar rápidamente sin romper las conexiones de las tuberías y las conexiones de entrada/salida se suministran en una configuración horizontal en línea
Product Selection
- Filtros de vacío Consler® serie LKV/HKV - para proteger las bombas de vacío a altas temperaturas de trabajo
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