集成电路

Graver Technologies为微电子器件生产中的关键应用提供过滤解决方案。

半导体行业的创新过滤技术

过滤要求在制造称为集成电路的超小型电子元件时至关重要。这一广泛的类别包括晶体管、电容器、电阻器、二极管、LED 和光电管等设备。可以集成不同类型的设备以形成集成电路或VLSI（超大规模集成）设备，例如微处理器和随机存取存储器（RAM）。随着越来越多的设备堆叠到单个集成电路中，设备之间的距离（称为线宽或几何形状）也会缩短。这样可以实现更快的功能，同时降低每个芯片的成本。因此，用于制造这些设备的工艺需要超纯水以及许多潜在的危险或腐蚀性化学物质和化学混合物，所有这些化学物质和化学混合物都必须经过高度过滤，以确保设备的质量和高产量。

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关于 Graver 的集成电路滤波器

含氟聚合物膜和全氟聚合物结构，可满足溶剂型剥离剂、食人鱼和腐蚀性酸基产品的化学兼容性要求。
制造、使用 18 mω-cm DI 水冲洗，经过测试并在 ISO 7 级洁净室环境中包装，以确保低可萃取性和低颗粒脱落
用于水基酸的 PES 膜，具有卓越的流动特性、较高的污染容量和对亚微米颗粒的持续去除。

Product Selection

ZTEC™ -用于对含水化学品的关键颗粒进行低至 0.03 微米的控制
TEFTec™- 疏水 PTFE 膜，适用于更具侵略性的化学应用
Citadel®- 全氟聚合物过滤器，适用于最关键和最具侵略性的化学应用

Final Applications

超纯化学品

金属有机化学气相沉积

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